威立雅Veolia AG-440 H反渗透膜案例2：半导体行业超纯水系统膜安装案例

威立雅Veolia AG-440 H反渗透膜案例2：半导体行业超纯水系统膜安装案例

某半导体芯片生产企业超纯水系统，对水质纯度要求极高，原有膜元件无法适配高精度清洗用水需求，选用威立雅Veolia AG-440 H反渗透膜作为一级脱盐核心部件。安装前期对系统管路进行电解抛光处理，避免金属离子析出，膜壳采用高纯材质，安装精度把控严格，水平度、垂直度误差≤1mm/m，杜绝杂质残留与污染。

施工人员穿戴高纯无尘服，威立雅Veolia AG-440 H反渗透膜拆封后在无尘环境下安装，密封圈润滑到位，推入膜壳力度均匀，无摩擦损伤，多支串联安装时确保水流均匀分布，减少浓差极化。调试阶段优化运行压力、回收率参数，监测产水电阻率≥15MΩ·cm，金属离子含量趋近于零，完全满足半导体芯片清洗超纯水要求。该膜元件高脱盐、高稳定性优势突出，运行无杂质析出，适配半导体行业严苛水质标准，延长后端超纯水设备使用寿命。